年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Azot Trifluorid）,化学式NF3,是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体,具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中,三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯♓显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域,三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓位清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器, 通过与氢反应在瞬间放出⼝激热学激光器应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料,并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进

Azot trifluorid, hemijska formula NF3, je jako oksidaciono sredstvo. Kao važan industrijski specijalni plin, ima širok spektar primjena.
U mikroelektronskoj industriji, dušikov trifluorid je odličan plin za jetkanje plazmom; U poluvodičkim čipovima, ravnim ekranima, optičkim vlaknima, fotonaponskim ćelijama i drugim proizvodnim poljima, dušikov trifluorid se uglavnom koristi kao plin za jetkanje plazme i sredstvo za čišćenje reakcionih šupljina.
Također se može koristiti u visokoenergetskim hemijskim laserima kako bi se postigla njegova primjena reakcijom s vodonikom i emitiranjem velike količine topline u trenu. Azot trifluorid se također koristi kao visokoenergetsko gorivo i kao oksidant i pogonsko gorivo u lansiranju raketa.